要生產出令客戶滿意的硅橡膠制品，表面處理工藝就很重要，除了印刷之外，還有就是要做好防塵。因為硅膠含有靜電，這就使得產品很容易吸附灰塵、雜質和毛發。那么硅膠產品怎么去除靜電，解決表面防塵問題呢?

　　理論上，硅膠表面存有氧氣原子，帶負極和靜電，塵粒則帶有正極，因此塵粒和硅膠靜電表面可互相吸引，使表面沾塵難于清理，影響產品外觀。針對硅膠表面容易沾塵的問題，硅膠制品廠致力研究解決方案，結果發現，利用等離子表面改性技術可改善有關表現，最終成功以等離子體輔助化學氣相沉積(PECVD)技術，達到優化產品表面性質的效果。

　　受靜電影響，一般硅膠容易沾塵，廠商若以傳統化學涂層方法，防塵及潤滑涂層功效只可維持數個月。好的方法是以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性，將負極硅膠表面改為正極，過程中使用無害的有機化學品，不會排出污染廢料，因此是清潔生產工藝。其較低靜電量特質，防塵效用高，適用于手表表帶等，亦可用于醫療設備。

　　等離子體表面處理技術適用于纖維、聚合物和塑膠等物料，亦可應用于清洗、活化及蝕刻金屬、塑膠與陶瓷材料的表面部分，改變材料表面的物理特征。硅膠產品防塵處理環保工藝，可有效解決硅膠靜電、容易沾塵問題，延長產品壽命，是一種硅膠表面處理工藝。它可應用于所有硅膠及相關產品。

　　高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(HPPMS)是結合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新型磁控濺射系統。在鍍層過程上，電源扮演重要的角色，采用「高能量」和「脈沖式」的放電方式，可于少于2微秒的短時間，發出高達1500V輸出電壓的強大能量，猶如閃電現象。由于過程中釋放大量的離子，消除鍍膜的內應力，因此可制成厚離子鍍層，無損產品或工件的表面。這種方式可提高離化率(IonizationRate)，即改善涂層在產品表面的附著力。

　　高能量脈沖式等離子磁控濺射技術，能超越傳統的磁控濺射方法，制作出高質量多于3μm的厚離子鍍層。由于高能量脈沖方式有利增加離子的密度，不但加強鍍層與底材之間的接合力，亦可減低表面粗糙度，在功能性部件上可進一步增強耐磨性能及減少替換次數。

　　對裝飾性強的硅膠產品來說，可保持外觀及更耐用，因此以高能量脈沖式制作鍍層，能有效利用等離子體，從而控制涂層的結構，其特點是可沉積在光滑致密的微細結構，提升耐腐蝕性及表面光潔度。又或是可沉積在復雜的幾何工件之上，達致更均勻的涂層。